RF-V1000 iQ - Kompletny centralny system wentylacji dużych objętości do aplikacji lutowniczych

Wysokiej jakości system ekstrakcji RF-V1000 iQ łączy niezwykle dużą pojemność filtra przy wysokim przepływie powietrza i ciśnieniu, dzięki czemu jest to idealny wybór do ciężkich zastosowań, które generują duże ilości cząsteczkowych i gazowych związków organicznych. Urządzenie może obsłużyć do maksymalnie 15 operatorów jako scentralizowany system lub można je wykorzystać jako wyciąg oparów ze zautomatyzowanej maszyny lutowniczej (piec lutowniczy).

Wydajność została dodatkowo zwiększona dzięki włączeniu kilka nowych funkcji, w tym nowy system operacyjny iQ, dzięki czemu nowy RF-V1000 iQ jest jednym z dostępnych najbardziej zaawansowanych systemów.

System iQ przenosi parametry wydajności i bezpieczeństwa na nowy poziom i zapewnia że utrzymanie, przestoje i koszty utrzymania są ograniczone do minimum.

Cechy:

• System operacyjny iQ
• Wysokie natężenie przepływu powietrza i ciśnienia
• Technologia filtra odwróconego przepływu powietrza
• Filtr wstępny DeepPleat DUO
• Automatyczny system kontroli przepływu
• Odczyt przepływu powietrza w czasie rzeczywistym
• Wyświetlacz o wysokim kontraście
• "Uruchom bezpieczną" operację
• Zdalna diagnostyka przez USB
• Niezależne monitorowanie stanu filtra, wyświetlanie i ostrzeżenia
• Połączony filtr HEPA / gaz z technologią ACF
• Filtry o długiej żywotności i niskim koszcie wymiany

Dane techniczne

Wymiary (WxSxG)	1197 x 600 x 790mm
Konstrukcja obudowy	Szczotkowana stal nierdzewna / Proszkowo malowana stal miękka
Przepływ powietrza / Ciśnienie	850m3/godz / 100mbar
Zasilanie elektryczne	230 V / 1 faza / 50 Hz Max pobór prądu 12,8A / 2,2kW
Poziom hałasu	< 63dBA - przy typowej prędkości roboczej < 58dBA - z zamontowanymi tylnymi skrzynkami wyciszającymi (przy typowej prędkości roboczej)
Waga	140kg
Wydajność filtra wstępnego	F8 (95% przy 0,9 mikrona)
Wydajność filtra HEPA	H13 (99,997% przy 0,3 mikrona)
Filtr gazowy	Bezpyłowy aktywny węgiel granulowany

* Podczas typowej prędkości roboczej.